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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。?

對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。?

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關予抽，開前機和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質過多，一般純度應在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達標，都要達到10—7倍Pa。（不準確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項目的潛在設置不合理。真空擴散泵油應更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應該調(diào)整。

1．在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，先開水管，工作中應隨時注意水壓。
2．在離子轟擊和蒸發(fā)時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。
3．在用電子槍鍍膜時，應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。
4．鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夾具應在通風裝置內(nèi)進行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。
8．工作完畢應斷電、斷水。

1）所需設備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結構：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質：碳鋼
　　3.靶材設計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設計。
　　6.人機對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話，及時對生產(chǎn)過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設施：

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的卷繞控制要求的轉矩控制，以般采用直流驅動，但是隨著交流驅動技術的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機或交流異步電機驅動。丹佛斯FC302系列驅動器具有伺服級的驅動性能，驅動交流異步電機也有實現(xiàn)平穩(wěn)的轉矩控制，為這個行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設置幾個簡單的參數(shù)，就能滿足實際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的傳動結構：
　　放卷轉向為正
　　放卷轉向為負
　　3驅動懸浮式高真空卷繞式鍍膜機的典型傳動結構，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺FC302驅動，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺FC302驅動，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺FC302驅動，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時有正、反兩種轉向，對應反、正兩種轉矩。

　　真空鍍膜機傳動系統(tǒng)的特點：
　　1.由于真空室狹小，無法安裝張力檢測裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅動的電機直接控制。因此收、放卷驅動器都工作于轉矩工作模式。對于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動作用的冷卻輥上沒有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動薄膜；收、放卷張力相差較大時，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅動控制方面的難題。