濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當(dāng)點(diǎn)評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進(jìn)行真空的獲得，十分耗時。增加了出產(chǎn)和檢測的本錢。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機(jī)真空度的一種檢查方法，簡稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統(tǒng)抽氣時，真空室內(nèi)壓力降低。內(nèi)外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。