化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗(yàn)等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機(jī)光電器材和電路的制備。

關(guān)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料，需要與膜層結(jié)合性高，放氣量小，受熱穩(wěn)定，一起滿意這三個(gè)條件的塑料資料是十分少的，但塑料資料在工業(yè)出產(chǎn)中的應(yīng)用卻十分廣泛，所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來，為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中，常常經(jīng)過各種方法改善。

聚乙烯由于真空鍍膜習(xí)慣差，但經(jīng)過改造后仍是能夠用于真空鍍膜的，但只能出產(chǎn)等級低的包裝產(chǎn)品或隔熱產(chǎn)品，聚丙烯比聚乙烯受熱更穩(wěn)定，并且十分輕，所以其利用價(jià)值比較高，不過聚丙烯與膜層的結(jié)合性比較差，所以表面處理后才能進(jìn)行鍍膜，膜層作裝飾作為，使產(chǎn)品更漂亮。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應(yīng)用規(guī)模，如不美觀、易老化、機(jī)械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機(jī)資料和塑膠產(chǎn)呂結(jié)合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。