工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來越廣泛。
在維護(hù)中，需要注意哪些問題？
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EDI模塊的維護(hù)主要是針對出水量下降、水質(zhì)惡化等問題，是對EDI進(jìn)行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內(nèi)部故障而需要維修。
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很多EDI模塊的操作人員或者管理人員并不知道如何維護(hù)EDI，所以小編就給大家分享一些關(guān)于EDI模塊維護(hù)的要點(diǎn)，供大家在一定程度上自己檢查和糾正。
對于EDI模塊的維護(hù)，我們需要根據(jù)其故障現(xiàn)象選擇相應(yīng)的維護(hù)方法。EDI設(shè)備的主要故障是出水量低、水質(zhì)差。
針對這兩種故障，有不同的維修點(diǎn)，具體如下:
1. 江宇環(huán)保EDI模塊低產(chǎn)水量維護(hù)要點(diǎn):
為了修復(fù)EDI模塊的低產(chǎn)水量，我們需要分析是否是由于內(nèi)部污垢，閥門和開關(guān)狀態(tài)異常，管道或部件損壞，或其他原因造成的。
1. 干凈的EDI。
如果是由于EDI內(nèi)部結(jié)垢導(dǎo)致出水量少，則需要清洗;，樹脂需要清洗，因?yàn)闃渲菀仔纬晌酃?其次，對每個(gè)管道的管道進(jìn)行清洗，以確保污垢被清除。
2. 調(diào)整閥門和開關(guān)狀態(tài)。
當(dāng)閥門沒有調(diào)整到正確的位置時(shí)(特別是控制出水的閥門)，會導(dǎo)致產(chǎn)水量減少，而各部件的開關(guān)，特別是流量開關(guān)，如果設(shè)置不正確，會導(dǎo)致產(chǎn)水量減少。
由此引起的產(chǎn)水量變低，只需調(diào)整閥門和開關(guān)狀態(tài)即可。
3.
維修或更換部件。
如果管道或其他部件出現(xiàn)問題，例如泄漏，則需要進(jìn)行維修;如果通過修理無法解決問題，則需要更換損壞嚴(yán)重的部件。
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對于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會變差，可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會變差，可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

離子交換樹脂的應(yīng)用

1.羅門哈斯離子交換樹脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子，起到凈化水的作用。

2.羅門哈斯離子交換樹脂拋光樹脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)。一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上，以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。

如何選擇EDI電源？

　　在選擇EDI電源之前，我們需要明確EDI系統(tǒng)的產(chǎn)水流量、CEDI模塊的品牌、CEDI模塊的數(shù)量以及型號等參數(shù)，不同品牌，不同廠家生產(chǎn)的CEDI膜堆流量、運(yùn)行壓力、電壓、電流是不相同的。在明確每臺CEDI模塊的流量，運(yùn)行電壓和電流之后，我們就可以選擇相應(yīng)的EDI電源了。目前在國內(nèi)，好的EDI電源品牌主要有上海懿博和上海萌欣，可以配套使用在0.5噸-5噸流量，電流0-10A，電壓0-600V的CEDI模塊上。如果您對EDI電源的選型上還有疑問，

阻垢劑投加裝置報(bào)價(jià)

如何運(yùn)行和維護(hù)阻垢劑加藥裝置呢？

1、清洗攪拌槽，廢水從槽出口排出。

2、檢查攪拌裝置安裝是否平穩(wěn)牢固。并檢查電源是否已打開。在投入使用分鐘，沒有噪音和運(yùn)行平穩(wěn)是正常的。

3、檢查計(jì)量泵的安裝是否平穩(wěn)牢固。看看電源是否開著。

4、檢查管子，頭發(fā)部件等是否安裝正確。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動 EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

使用EDI超純水系統(tǒng)時(shí)有一定的規(guī)則，用戶需要遵守這些規(guī)則。，在使用設(shè)備時(shí)，不能立即進(jìn)入工作狀態(tài)。操作前預(yù)熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護(hù)和使用注意事項(xiàng)。

　　一、EDI超純水系統(tǒng)運(yùn)行

　　設(shè)備在運(yùn)行一段時(shí)間后可能會發(fā)熱。這是正常的，但在設(shè)備運(yùn)行了一定時(shí)間后，有必要讓設(shè)備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統(tǒng)的工作時(shí)間為每天8小時(shí)，10小時(shí)可以，但使用一段時(shí)間后，用戶清潔設(shè)備以恢復(fù)受污染設(shè)備的原始性能。在恢復(fù)設(shè)備性能的同時(shí)，應(yīng)盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統(tǒng)。