真空鍍膜設備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設備維護保養(yǎng)進行后，能做一次氣密性試驗，就可以規(guī)避許多不合格產品的造成，做到節(jié)省成本費用的效果。

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真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當評價某薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得，非常耗時。增加了生產和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。

真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質相關于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體資料。此外，其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質，需求盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。