有些真空鍍膜機(jī)真空計(jì)的讀數(shù)，與氣體種類有關(guān)，比如熱偶計(jì)，電離真空計(jì)。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì)，這些真空計(jì)便成了探測(cè)器，一般鍍膜機(jī)上都有真空計(jì)，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計(jì)的示漏物質(zhì)有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計(jì)反應(yīng)較慢，觀察要很仔細(xì)。用于電離計(jì)的示漏物質(zhì)有氦，氬，酒精等。

真空系統(tǒng)是鍍膜機(jī)達(dá)到工藝條件的基本設(shè)備，其真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致，所以真空卷繞鍍膜機(jī)設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機(jī)通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏，主要用負(fù)壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機(jī)的真空系統(tǒng)，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長(zhǎng)時(shí)間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護(hù)，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計(jì)的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來算的不是按照真空值計(jì)算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強(qiáng)就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。
3、真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護(hù)與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。