對比幾個(gè)真空鍍膜機(jī)的檢漏方法：
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機(jī)真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù)，因?yàn)闄z漏率，簡單易使用，儀器設(shè)備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運(yùn)用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理，用氮?dú)庾魇韭怏w做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內(nèi)不停地震蕩，并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進(jìn)入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價(jià)鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進(jìn)入到磁場，因?yàn)槁鍌惼澚ψ饔卯a(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，產(chǎn)生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過磁場和接受縫抵達(dá)接收極而被檢驗(yàn)。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機(jī)不需要停機(jī)，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

真空系統(tǒng)是鍍膜機(jī)達(dá)到工藝條件的基本設(shè)備，其真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致，所以真空卷繞鍍膜機(jī)設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機(jī)通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏，主要用負(fù)壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機(jī)的真空系統(tǒng)，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長時(shí)間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護(hù)，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計(jì)的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來算的不是按照真空值計(jì)算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強(qiáng)就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢
1、設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。
3、真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁要清潔處理。
4、真空鍍膜清洗襯底材料，要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。
5、真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。
6、工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有的服裝。
由于灰塵對鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

鍍膜機(jī)工藝在裝飾品方面的運(yùn)用跟著經(jīng)濟(jì)的開展和生活水平的進(jìn)步，大家喜愛將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室表里裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五光十色。