穩(wěn)定性氧化鋯
外　　觀： 白色粉末
性　　質(zhì)： 、無(wú)味，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，熱導(dǎo)率低，耐熱沖擊性好。
用　　途： 適用于制造各類機(jī)械部件、切削工具、、結(jié)構(gòu)陶瓷、電子陶瓷、生物陶瓷、耐火材料、光通訊器件、氧傳感器、固體氧燃料電池等。

深圳市華宇金屬材料有限公司位于深圳市的中部工業(yè)發(fā)達(dá)區(qū)龍華。公司產(chǎn)品延續(xù)深圳市新興金屬科技有限公司，創(chuàng)建于2005年，向PCB電鍍、化工廠家、化工設(shè)備，真空離子鍍膜、吸氣劑、鉻鋯銅合金、磁性材料，鋁鋯中間合金，等離子切割等領(lǐng)域的廠家供應(yīng)有色金屬的鈦，鋯，鉿，鈮，鉭等的原材料及產(chǎn)品：
1）金屬鈦、結(jié)晶鈦、鈦板，鈦絲、鈦棒、鈦卷帶、鈦箔、鈦籃、鈦包銅、鈦管、鈦冷卻管、鈦螺絲等。
2）金屬鋯、高純鋯、海綿鋯，碘化鋯、結(jié)晶鋯、鋯錠、鋯籃、鋯靶、鋯屑、鋯邊角、鋯棒、鋯板、鋯管、鋯鋼反應(yīng)釜罐，鋯盤管，鋯冷卻管，鋯絲、鋯箔、鋯帶、鋯舟、鋯杯、鋯螺絲、鋯包銅，鋯鐵，鋁鋯中間合金等。
3）結(jié)晶鉿，高純鉿，海綿鉿，鉿絲、鉿靶、鉿棒、鉿下角料、鉿錠、鉿屑等。4）金屬鉭，鉭板，鉭絲，鉭棒，鉭靶等。
5）金屬鈮，鈮錠，鈮板，鈮棒，鈮板，鈮粉等。
公司和內(nèi)地、臺(tái)灣、韓國(guó)、泰國(guó)的許多企業(yè)建立了長(zhǎng)期的合作關(guān)系。公司秉誠(chéng)以誠(chéng)信為本、質(zhì)量、用戶至上的經(jīng)營(yíng)理念，堅(jiān)持“誠(chéng)實(shí)守信，精益求精”的精神宗旨，竭誠(chéng)為廣大廠商提供的產(chǎn)品和服務(wù)，確保公司與客戶的持續(xù)發(fā)展。

金屬靶材：
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等金屬濺射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材。
3.合金靶材
鎳鉻合金靶、鎳釩合金靶、鋁硅合金靶、鎳銅合金靶、鈦鋁合金、鎳釩合金靶、硼鐵合金靶、硅鐵合金靶等高純度合金濺射

磁控濺射原理：鋯靶在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

主要應(yīng)用
編輯
濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。
分類
根據(jù)形狀可分為方靶，圓靶，異型靶
根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等
根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域分為微電材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導(dǎo)電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材
鋯板，鋯圓靶，鋯管靶，鋯靶，鈦靶，鉻靶

化工反應(yīng)釜的工作方式：
一般與瑭玻璃鋼反應(yīng)釜配合，作蒸汽加熱或水冷卻之用。管內(nèi)大壓力根據(jù)臂厚不同可承受壓力６～２０㎏，換熱面積按設(shè)計(jì)要求制作。
1、耐用程度遠(yuǎn)比（搪玻璃反應(yīng)釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜內(nèi)膽磕碰，掉釉，壽命只有4-12個(gè)月）
2、加熱或冷卻效率比（搪玻璃反應(yīng)釜）在單位容器，單位時(shí)間快6個(gè)小時(shí)，也就是說(shuō)如果改用鋯盤管換熱，兩臺(tái)釜可以出來(lái)三臺(tái)的產(chǎn)量。
3、我公司有豐富的改裝，維護(hù)，施工經(jīng)驗(yàn)。
如果有對(duì)此產(chǎn)品有興趣的朋友可以給我電話，一起探討，用鋯材的換熱器價(jià)格肯定比搪玻璃的貴，比方一套6300L的釜，使用R60702鋯材盤管換熱器價(jià)格大概15W，但是經(jīng)過(guò)我公司改裝過(guò)的和新上這種設(shè)備的客戶在使用后，對(duì)本產(chǎn)品都是肯定的，貴的值得，貴的有道理，不論是在經(jīng)濟(jì)上（假以時(shí)日鋯換熱器還是比搪玻璃經(jīng)濟(jì)），還是在生產(chǎn)（產(chǎn)量），維護(hù)上（零維護(hù)），比使用搪玻璃換熱的要好的多

鋯管-鋯板-鋯帶-鋯棒-鋯絲
牌號(hào)：Zr－0、Zr－2、R60702，R60705、Zr－4；
規(guī)格： 0.03～50×200～600×Lmm 0.5～100×Lmm；
種類：軋制、鍛制、拉制；標(biāo)準(zhǔn)：Q／BS6531－91、GB8769－88、Q／BS6331－91、Q／BS6431－91。

鋯的表面易形成一層氧化膜，具有光澤，故外觀與鋼相似。有耐腐蝕性，但是溶于氫氟酸和王水；高溫時(shí)，可與非金屬元素和許多金屬元素反應(yīng)，生成固體溶液化合物。鋯 鋯單質(zhì)
的可塑性好，易于加工成板、絲等。鋯在加熱時(shí)能大量地吸收氧、氫、氮等氣體，可用作儲(chǔ)氫材料。鋯的耐蝕性比鈦好，接近鈮、鉭。鋯與鉿是化學(xué)性質(zhì)相似、又共生在一起的兩個(gè)金屬，且含有物質(zhì)。地殼中鋯的含量居第19位，幾乎與鉻相等。自然界中具有工業(yè)價(jià)值的含鋯礦物，主要有鋯英石及斜鋯石。

鋯是一種稀有金屬，具有驚人的抗腐蝕性能、的熔點(diǎn)、的硬度和強(qiáng)度等特性，被廣泛用在航空航天、、核反應(yīng)、原子能領(lǐng)域。本次"神六"上使用的抗腐蝕性、耐高的鈦產(chǎn)品，其抗腐蝕性能遠(yuǎn)不如鋯，其熔點(diǎn)1600度左右，而鋯的熔點(diǎn)則在1800度以上，二氧化鋯的熔點(diǎn)更是高達(dá)2700度以上，所以鋯作為航空航天材料，其各方面的性能大大于鈦。

鋯作為與氧有親和力的活潑金屬，氧化膜的耐蝕性能決定了其可以勝任多重腐蝕環(huán)境。
一、工業(yè)純鋯在所有的沸騰的所有濃度鹽酸中，腐蝕速率均小于0.025mm/a。
二、在小于70%的硫酸中鋯具有的耐蝕性。此外由于不銹鋼和鎳合金不能在高溫、20%的硫酸和40-60%的沸騰溫度以下的硫酸范圍內(nèi)使用，故鋯在硫酸環(huán)境具有無(wú)可替代的作用。
三、在200℃以下，不大于90%的硝酸中，鋯具有良好的耐蝕性。但應(yīng)注意鋯在硝酸中的應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂敏感性。
四、鋯在所有濃度甚至沸騰的苛性堿溶液中都耐腐蝕。耐蝕性超過(guò)了鉭、鈮、鈦。