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真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)線設(shè)備是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及的售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。
隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng)，各種類型的真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響，現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機(jī)來看看造成不均勻的因素有哪些。
光學(xué)薄膜快貼技術(shù)這種顛覆性的技術(shù)意味著小型車房和店內(nèi)車房更容易入門鍍膜行業(yè)。復(fù)雜且一體化的多層薄膜只需輕松幾步即可附著到鏡片上 - 完全取代了傳統(tǒng)鍍膜工藝。
金屬在真空中加熱時(shí)會(huì)變成氣體而蒸發(fā)，真空蒸發(fā)就是利用此原理。處理時(shí)多在10-5Torr以下的真空中進(jìn)行，金屬及各種化合物都可當(dāng)作被附著物質(zhì)，其應(yīng)用例有鏡片、反射鏡、塑膠零件等；但是以金屬表面硬化為目的的用途則很少，主要多用于裝飾性物件。
真空鍍膜厚度屬于微米級(jí)，1μm 相當(dāng)于傳統(tǒng)電鍍一條的十分之一，因此經(jīng)過鍍膜作業(yè)以后，并不會(huì)影響工件的精度；傳統(tǒng)電鍍的批覆方式是以一種包覆的方式在外形成一層電鍍層，并無高度密著性可言。
一般濕式鍍層所制作之鍍膜會(huì)在表面覆蓋成一個(gè)薄膜層 ，不論底材之原先形狀為何，表面所呈現(xiàn)出來的薄膜層都會(huì)趨于平坦。PVD 鍍層會(huì)依底材形狀平均在上方形成一個(gè)鍍膜層，依底材高低形狀有所不同，經(jīng)鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態(tài)樣。
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