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真空鍍膜機詳細(xì)鍍膜方法如下：
1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。
2、打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。
3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，無雜質(zhì)污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動真空鍍膜設(shè)備抽真空機械泵。
7、開復(fù)合真空計電源。
1）左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。
2）低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。
8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。
9、真空鍍膜設(shè)備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
10、低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。
鍍膜機工藝在集成電路制造中的運用，鍍膜機晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是選用CVD技能、PVCD技能、真空蒸騰金屬技能、磁控濺射技能和射頻濺射技能?？梢姎庀喽逊e術(shù)制備集成電路的核心技能之一。
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