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真空鍍膜設(shè)備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設(shè)備維護保養(yǎng)進行后，能做一次氣密性試驗，就可以規(guī)避許多不合格產(chǎn)品的造成，做到節(jié)省成本費用的效果。
有些真空鍍膜機真空計的讀數(shù)，與氣體種類有關(guān)，比如熱偶計，電離真空計。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì)，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應(yīng)較慢，觀察要很仔細(xì)。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦，氬，酒精等。
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。
真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是的一項技術(shù)。但是真空鍍膜設(shè)備在使用一段時間后，表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。
主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。
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