真空鍍膜設(shè)備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)進(jìn)行后，能做一次氣密性試驗(yàn)，就可以規(guī)避許多不合格產(chǎn)品的造成，做到節(jié)省成本費(fèi)用的效果。

鍍膜設(shè)備應(yīng)該在高真空下工作，真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時(shí)鍍膜設(shè)備的真空值抽不出來(lái)或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統(tǒng)式的氣密性試驗(yàn)方式應(yīng)該鍍膜設(shè)備關(guān)機(jī)，充氮，再在猜測(cè)有漏的位置涂上肥皂泡，整個(gè)過(guò)程用時(shí)費(fèi)事極易錯(cuò)判，針對(duì)微小的泄露沒法檢驗(yàn)。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運(yùn)用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環(huán)保，檢漏時(shí)無(wú)需關(guān)機(jī)，立即在機(jī)械泵的旁通連接測(cè)漏儀便可以迅速有效的進(jìn)行檢驗(yàn)了。

對(duì)比幾個(gè)真空鍍膜機(jī)的檢漏方法：
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機(jī)真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù)，因?yàn)闄z漏率，簡(jiǎn)單易使用，儀器設(shè)備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運(yùn)用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理，用氮?dú)庾魇韭怏w做成的氣密性檢測(cè)儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內(nèi)不停地震蕩，并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進(jìn)入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價(jià)鍵，這種氦離子在加快靜電場(chǎng)的作用下進(jìn)入到磁場(chǎng)，因?yàn)槁鍌惼澚ψ饔卯a(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，產(chǎn)生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過(guò)磁場(chǎng)和接受縫抵達(dá)接收極而被檢驗(yàn)。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機(jī)不需要停機(jī)，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

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真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長(zhǎng)時(shí)間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護(hù)，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計(jì)的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說(shuō)的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來(lái)算的不是按照真空值計(jì)算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強(qiáng)就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

真空鍍膜機(jī)的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的性能。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問題：，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗(yàn)裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測(cè)的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。

真空鍍膜機(jī)工作的環(huán)境要求：
真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。
這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周，油封式機(jī)械泵不宜抽除對(duì)金屬有腐蝕性、對(duì)真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時(shí)，對(duì)泵油的污染會(huì)更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。
長(zhǎng)期回收真空鍍膜機(jī)鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備。

真空鍍膜工藝在信息存儲(chǔ)范疇中的運(yùn)用薄膜資料作為信息記載于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢(shì)：因?yàn)楸∧ず鼙∧軌蚴韬鰷u流損耗；磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡(jiǎn)單保持等。為了更精細(xì)地記載與存儲(chǔ)信息，必定要選用鍍膜技能。
主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護(hù)與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。