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有些真空鍍膜機(jī)真空計(jì)的讀數(shù),與氣體種類有關(guān),比如熱偶計(jì),電離真空計(jì)。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì),這些真空計(jì)便成了探測器,一般鍍膜機(jī)上都有真空計(jì),使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計(jì)的示漏物質(zhì)有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計(jì)反應(yīng)較慢,觀察要很仔細(xì)。用于電離計(jì)的示漏物質(zhì)有氦,氬,酒精等。
真空系統(tǒng)是鍍膜機(jī)達(dá)到工藝條件的基本設(shè)備,其真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢,都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致,所以真空卷繞鍍膜機(jī)設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機(jī)通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏,主要用負(fù)壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機(jī)的真空系統(tǒng),在可能泄漏地方噴氦檢漏。
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
真空鍍膜工藝在傳感器方面的運(yùn)用在傳感器中,多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來說,極為敏感的半導(dǎo)體資料。此外,其中大多數(shù)運(yùn)用的是半導(dǎo)體的外表、界面的性質(zhì),需求盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低報(bào)價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。
真空鍍膜機(jī)工藝在光學(xué)儀器中的運(yùn)用大家了解的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀,以及平時(shí)生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技能,鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
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