等離子清洗設(shè)備，全自動清洗機，自動XY軸式等離子機，
大氣等離子清洗機，寬幅等離子機，真空等離子清洗機

自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)
產(chǎn)品優(yōu)點：
1.配置運動控制平臺，PLC+觸摸屏控制方式，采用運動模組，操作簡便
2.可配置特制平臺，滿足客戶多元化要求
3.主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷，涂覆，點膠等前處理，手機屏幕的表面處理，工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗，通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷，轉(zhuǎn)移印刷前處理等
型號 CRF-APO-500W
電源 220V/AC,50HZ
功率 2SET*800W/KHZ
處理寬幅 50mm-500mm
有效處理高度 5－15mm
處理速度 0－5M/min
噴頭數(shù)量 2
工作氣體 Compressed Air(0.4mpa)

公司實力：

源于美國and德國30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術(shù)，CRF誠峰智造，現(xiàn)已成為中國的等離子處理系統(tǒng)解決方案供應(yīng)商，的售后客服讓您沒有后顧之憂


等離子體(plasma)又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產(chǎn)生的正負(fù)離子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，尺度大于德拜長度的宏觀電中性電離氣體，其運動主要受電磁力支配，并表現(xiàn)出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。等離子體是一種很好的導(dǎo)電體，利用經(jīng)過巧妙設(shè)計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源、信息、環(huán)境空間、空間物理、地球物理等科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展提供了新的技術(shù)和工藝。

在工業(yè)生產(chǎn)過程中對電子元件、光學(xué)部件、機械零件、高分子材料 等表面的超純度清洗，以消除極微小污垢顆粒，常常是一道非常關(guān) 鍵的工藝。
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傳統(tǒng)的清洗方式大多為濕法清洗，隨著現(xiàn)代高科技的不斷發(fā)展這種 清洗方法已暴露出其致命的缺陷，即清洗干燥以后的清洗劑殘余和 微小顆粒會附著在表面，已經(jīng)不能滿足現(xiàn)代高科技工藝的要求。
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低溫等離子清洗工藝實際上是把污染物從被處理工件上移開，并在等離子體反應(yīng)的沖擊下被帶走，處理循環(huán)一般只需要幾分鐘就能很好除去表面的臟污，真正做到無殘留，。
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由于氣體對于微小縫隙的滲透力遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于液體，對于復(fù)雜形態(tài)的物體同樣可以得到清洗的效果。
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等離子清洗過程中起決定性的因素是無論常壓狀態(tài)，還是真空狀態(tài)，即使在溫室的條件下，等離子體都會和有機污染物產(chǎn)生反應(yīng)，分解成水和二氧化碳等分子，并具有良好的揮發(fā)性。?

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