納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無色透明色固含量的20%-25%。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該5-10納米的氧化鋁是經過原來粒徑稍大的納米氧化鋁經過層層深加工篩選出來的氧化鋁，具有明顯納米藍相，添加到各種丙烯酸樹脂，聚氨酯樹脂，環(huán)氧樹脂，三聚氰胺樹脂，硅丙乳液等樹脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以明顯提高樹脂的硬度，硬度可達6-8H甚至更高。完全透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，由于其納米粒徑相當細小，固無論是何種溶劑皆是透明的，同時可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。

化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有獨特的化學和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果。化學機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產生很大的影響。

目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液是一種廣泛應用于金相樣品拋光的材料。這種材料具備納米級的特點，它擁有猶如牛奶般絲滑的質感，和被它拋光的東西一樣，它的樣子也是十分美觀。

氧化鋁拋光液是一種應用在金相拋光中的磨料。其實，它的作用還遠不止于此。它還可以去除樣品表面肉眼不可見的表面變形層，尤其是使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉或EBSD 技術檢測或是評定樣品時。對于一些做鑄鐵、鋼、不銹鋼、銅、聚合物、礦物質、微電子、貴金屬等金相樣品制備的實驗室來說，氧化鋁拋光液是的一種磨料。