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氣相沉積硫化鋅

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  • 信息
    報(bào)價(jià)
  • 氣相沉積精密小型真空濺射儀真空鍍膜
    鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商,客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設(shè)..
    06月14日
  • 頂立科技廠家直銷臥式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)化學(xué)氣相沉積爐氣相沉積爐
    化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 可根據(jù)客戶需求設(shè)計(jì)尺寸,能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求; 采用多
    05月27日
  • CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備
    設(shè)備介紹: 本設(shè)備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低
    09月11日
  • 頂立科技廠家直銷立式化學(xué)氣相沉積爐(碳化硅)氣相沉積爐沉積爐
    該立式化學(xué)氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。 技術(shù)特征 采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍??;
    01月15日
  • 頂立科技廠家直銷立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)CVD/CVI氣相沉積爐
    立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū),溫度均勻性好; 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密
    05月27日
  • 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
    等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),價(jià)格咨詢15301310116 北京麥迪森科技有限公司 符合CE認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)的三溫區(qū)CVD系統(tǒng),生長樣品腔的管徑60-120mm,它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與
    04月18日
  • 氣相沉積爐CVD爐
    180000.00元
    一、產(chǎn)品簡介: 該設(shè)備ZYG1700-100是一款非標(biāo)定制的小型雙溫區(qū)管式爐;可實(shí)現(xiàn)一邊進(jìn)氣做氣象沉積同時(shí)還能抽真空,保持爐膛內(nèi)的真空度為負(fù)壓的狀態(tài);真空系統(tǒng)由干泵+分子泵組成真空度可達(dá)6.67..
    12月11日
  • 高校實(shí)驗(yàn)室等離子體化學(xué)氣相沉積等離子模塊
    等離子體化學(xué)氣相沉積( plasma chemical vapor deposition)簡稱PCVD,是一種用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)..
    10月28日
  • 半導(dǎo)體真空氣相沉積磁控薄膜沉積真空鍍膜濺射儀
    鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商,客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積鍍膜技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。氣相沉積濺射其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下,高..
    06月14日
  • 供應(yīng)CVD實(shí)驗(yàn)爐化學(xué)氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐
    設(shè)備名稱:鴻峰牌CVD設(shè)備化學(xué)氣相沉積爐 設(shè)備用途: 真空CVD設(shè)備&化學(xué)法氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐主要用于實(shí)驗(yàn)室新型炭材料和膜材料的化學(xué)沉積實(shí)驗(yàn),屬于管式高溫回轉(zhuǎn)爐。 該設(shè)備燒結(jié)溫
    03月12日
  • PEVCD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)石墨烯生長常用設(shè)備
    (一)產(chǎn)品用途:對于石墨烯生長工藝非常合適。制作硅片可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,對于離子注入后的貴金屬,各種黃
    05月24日
  • 一種石墨烯薄膜連續(xù)式氣相沉積爐
    供應(yīng)石墨烯氣相沉積法鴻峰牌CVD系統(tǒng) 該設(shè)備為咸陽鴻峰窯爐設(shè)備有限公司自主設(shè)計(jì)的化學(xué)氣相沉積爐,主要針對石墨烯薄膜的連續(xù)式沉積,屬于宏量制備系統(tǒng)。 設(shè)備特點(diǎn): 1.該設(shè)備可以實(shí)
    02月28日
  • CVD化學(xué)氣相沉積實(shí)驗(yàn)1700度CVD實(shí)驗(yàn)爐
    產(chǎn)品用途:主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分
    05月27日
  • 氣相自動(dòng)切換閥日本ITO伊藤AX-30A
    氣相自動(dòng)切換閥日本ITO伊藤AX-30A 概述 液化石油氣用自動(dòng)切換式一體型調(diào)壓器左右兩方各有一個(gè)入口,一方(正在使用方)的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應(yīng)時(shí),由另一方(預(yù)備方)
    04月09日
  • 蘇威SOLVAYGALDENHS240HS260氣相焊接液
    蘇威SOLVAY GALDEN HS 240 HS 260 氣相焊接液 應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產(chǎn)品..
    04月08日
  • 蘇威SOLVAYGALDEN系列LS155LS165氣相焊接液
    蘇威SOLVAY GALDEN系列 LS 155 LS 165 氣相焊接液 應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產(chǎn)品型號:LS 155..
    04月08日
  • ITO日本伊藤LPG調(diào)節(jié)閥氣相切換閥AX-160-0
    ITO日本伊藤LPG調(diào)節(jié)閥氣相切換閥AX-160-0 日本伊藤ITOKOKI分離式自動(dòng)切換閥AX-30A-0,AX-50-0,AX-160-0,AX-210A-0氣相自動(dòng)切換閥/自動(dòng)切換調(diào)壓器/減壓閥/調(diào)壓閥 ?AX系列液化氣自動(dòng)切換調(diào)..
    12月12日
  • 日本ITO伊藤AX-20A氣相自動(dòng)切換閥接液化氣鋼瓶
    日本ITO伊藤AX-20A氣相自動(dòng)切換閥接液化氣鋼瓶 概述 液化石油氣用自動(dòng)切換式一體型調(diào)壓器左右兩方各有一個(gè)入口,一方(正在使用方)的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應(yīng)時(shí),由另一
    12月12日
  • 日本ITO氣化爐切換閥AX-30A伊藤氣相切換閥
    日本ITO氣化爐切換閥AX-30A伊藤氣相切換閥 概述 液化石油氣用自動(dòng)切換式一體型調(diào)壓器左右兩方各有一個(gè)入口,一方(正在使用方)的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應(yīng)時(shí),由另一方(
    12月12日
  • 日本伊藤自動(dòng)切換式調(diào)壓器AX-10M氣相切換閥
    日本伊藤自動(dòng)切換式調(diào)壓器AX-10M氣相切換閥 專業(yè)主營ITOKOKI,KAGLA,F(xiàn)ISHER,ITRON, SENSUS,AMCO,REGO,ITRON,日本正英,霍尼韋爾,伊萊克斯,朱利安尼,德國DUNGS等知名品牌進(jìn)口燃?xì)庠O(shè)..
    12月12日
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