用途:制造玻璃,耐火材料(爐料),冶煉硅鐵,涂料,橡膠填料,冶金熔劑,陶瓷,研磨材料,金屬表面處理等方面,在建筑中利用其有很強(qiáng)的抗酸性介質(zhì)浸蝕能力,制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。
優(yōu)良的自然石英,經(jīng)由過程怪異的低溫處置工藝加工而構(gòu)成的粉末,重鈣粉使其份子布局分列由有序分列轉(zhuǎn)為無序分列.其色白,純度較高、活動機(jī)能好、并具備如下機(jī)能:
一、精良的光學(xué)性子:方石英的折射率從石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些樹脂的折射率.夾雜后的樹脂呈通明狀,不粉飾顏料自己的色采,而用別的填料添補則會使顏料的色采變淺、失真.
二、反射率:方石英的詳細(xì)布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加強(qiáng)防滑性,又可進(jìn)步油漆的反光性.
三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度達(dá)95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部門鈦白粉,低落配方本錢.
四、抗腐化,耐刻畫、耐擦洗、耐磨機(jī)能好.
五、不含有機(jī)物凈化,金屬含量極低:可加強(qiáng)涂料的抗紫內(nèi)線本領(lǐng),并具備精良的絕緣性、精良的電磁輻射性和低的介電常數(shù).
六、精良的抗熱震性.方石英受熱220m240℃左右時,產(chǎn)生必定水平的熱收縮,恰好抵償環(huán)氧樹脂、石膏等在此溫度下固化反響時的緊縮,使?jié)沧Ⅲw不變形.
七、極低的熱收縮系數(shù)、抗積淀性好、抗腐化性好.
利用行業(yè):電子質(zhì)料、高功效環(huán)氧樹脂、緊密鍛造、電瓷、電子晶片打磨、拋光質(zhì)料、珠寶行業(yè)、特種陶瓷質(zhì)料、特種耐火質(zhì)料、造紙、涂料油漆涂料、緊密模具、屏障質(zhì)料行業(yè),日用化工,粘合劑,塑料,PTC質(zhì)料、航空、航天、齒科質(zhì)料和硅橡膠等中填料,各種產(chǎn)業(yè)庇護(hù)涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用
硅微粉:在業(yè)內(nèi)人們將具有相應(yīng)純度的石英礦研磨所得的超細(xì)粉或通過化學(xué)所得的二氧化硅(如白炭黑)細(xì)粉都有稱硅微粉。
石英粉:以石英原礦通過不同的加工設(shè)備粉碎所獲得的粉體。
微硅粉的細(xì)度:硅灰中細(xì)度小于1微米的占80%以上,平均粒徑在0.1~0.3微米,比表面積為:20~28m2/g。其細(xì)度和比表面積約為水泥的80~100倍,粉煤灰的50~70倍。石英粉常用規(guī)格為400目,800目,1000目,1500目及2000目。
硅微粉能夠填充水泥顆粒間的孔隙,同時與水化產(chǎn)物生成凝膠體,與堿性材料氧化鎂反應(yīng)生成凝膠體。在水泥基的砼、砂漿與耐火材料澆注料中,摻入適量的硅灰,可起到如下作用:
⒈顯著提高抗壓、抗折、抗?jié)B、防腐、抗沖擊及耐磨性能。
2.具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。
⒊顯著延長砼的使用壽命。
⒋大幅度降低噴射砼和澆注料的落地灰,提高單次噴層厚度。
⒌是高強(qiáng)砼的必要成份,已有C150砼的工程應(yīng)用。
⒍具有約5倍水泥的功效,在普通砼和低水泥澆注料中應(yīng)用可降低成本,提高耐久性。
⒎有效防止發(fā)生砼堿骨料反應(yīng)。
⒏提高澆注型耐火材料的致密性。在與Al2O3并存時,更易生成莫來石相,使其高溫強(qiáng)度,抗熱振性增強(qiáng)。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有:
,三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中,與通入的干燥氯化氫氣體在280~330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應(yīng),反應(yīng)氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì),再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體,經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝,除去高沸物和低沸物,再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝,得到精制三氯氫硅液體。純度達(dá)到7個“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi),用超純氫氣作還原劑,在1050~1100℃還原成硅,并以硅芯棒為載體,沉積而得多晶硅成品。
第二,用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。此方法制得的硅純度為97%~98%,被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進(jìn)行重結(jié)晶,用酸除去雜質(zhì),得到純度為99.7%~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導(dǎo)體用硅,還要將其轉(zhuǎn)化成易于提純的液體或氣體形式,再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅,則需要進(jìn)行進(jìn)一步的提純處理。
第三, 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,用1000~3000kVA開式電弧爐,加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。
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