在紫外光照射下,吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進行光聚合反應,形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果好,就有一個佳的曝光量。從光能量的定義公式可知,總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變,則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時,由于聚合不,在顯影過程中,膠膜溶脹變軟,導致線條不清晰甚至膜層脫落,造成膜與銅結合不良;若曝光過度,會造成顯影困難,也會在電鍍過程中產(chǎn)生起翹剝離,形成滲鍍。所以,解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間,每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表,級差0.15,以控制6-9級為宜。
正顯影時,顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時,在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下,色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分,吸附色粉的能力越強;靜電潛像電位越低的部分,吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位(電荷的多少)的不同,其吸附色粉量也就不同。
反轉(zhuǎn)顯影中,感光鼓與色粉電荷極性相同。顯影時,通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用,碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。這樣感光鼓表面不可見的靜電潛像,就變成了可見的與原稿濃淡一致的不同灰度層次的色粉圖像。在靜電復印機中,色粉的帶電通常是通過色粉與載體的摩擦來獲得的,名稱后色帶電極性與載體帶電極性相反(單組份顯影劑中,僅有碳粉,碳粉與出粉刀摩擦帶電)。
干膜曝光顯影是pcb板制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在pcb板上刻畫幾何圖形結構,隨著關鍵尺寸的不斷縮小,pcb板制造對顯影工藝的要求也越來越高,顯影工作液重要性隨著工藝的進步日漸得到重視。
調(diào)整膠輥壓力
根據(jù)印版的厚度范圍調(diào)節(jié)各膠輥之間的壓力,無竄液或竄液小
顯影/水洗、水洗/涂膠、涂膠/烘干,版每次從兩膠輥出來都是干凈的
調(diào)節(jié)上膠輥之間的壓力,可調(diào)節(jié)上膠的厚薄,上膠
膠輥的硬度適應于印版,在上述要求的情況下,壓力盡可能小,壓力過大,增大顯影機負載,并易卡版
日常保養(yǎng)和維護
1、顯影液循環(huán)、膠液循環(huán)、水循環(huán)順暢,無堵塞;
2、定期更換顯影液,同時清洗顯影機(建議每天清洗一次);
3、定期更換過濾芯,一般每周更換一次(建議使用100u濾芯);
4、定期更換保護膠并清洗保護膠系統(tǒng)(建議每天一次);
5、每天擦洗膠輥(可能干凈的軟布沾顯影液擦冼);
6、定期清洗膠輥,各膠輥之間壓力均勻(每周一次);
7、定期清洗加熱段導軌(每周一次);
8、整機清潔,表面不殘留顯影液或其它化學制劑
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