西門子EDI模塊維護(hù)。
根據(jù)用戶的數(shù)據(jù)和描述，制定初步的維護(hù)計(jì)劃。
2.EDI模塊到達(dá)工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認(rèn)無(wú)誤后，將EDI模塊安裝在EDI測(cè)試機(jī)上運(yùn)行，檢查其異常參數(shù)并進(jìn)行記錄。
機(jī)器檢測(cè)和清洗，如有必要進(jìn)行拆卸檢查，更換內(nèi)部損壞的部件，包括板材、陽(yáng)離子膜、樹(shù)脂、隔板、連接線、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機(jī)上，進(jìn)行長(zhǎng)達(dá)10小時(shí)的再生操作，并詳細(xì)記錄參數(shù)。

EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設(shè)備的核心部件，當(dāng)EDI運(yùn)行不穩(wěn)定或者無(wú)法使用時(shí)，會(huì)造成拋光混床樹(shù)脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導(dǎo)致水質(zhì)產(chǎn)出異常，從而影響生產(chǎn)工作。

IONPURE西門子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊，是西門子公司針對(duì)工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對(duì)工業(yè)應(yīng)用而開(kāi)發(fā)西門子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)（CEDI）生產(chǎn)高純水，其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

EDI電源有什么作用？

　　EDI電源為配套水處理EDI模塊直流電源。無(wú)論是單模塊系統(tǒng)或多組模塊系統(tǒng)，該電源配套使用為一個(gè)EDI模塊配一組立電源系統(tǒng)的一對(duì)一工作方式，確保每個(gè)EDI模塊具有立的電源供給系統(tǒng)。該EDI電源的交流供電系統(tǒng)可以配裝交流控制部分，以實(shí)現(xiàn)與EDI前端設(shè)備的程序控制；EDI在水處理系統(tǒng)正常情況下才能實(shí)現(xiàn)交流供電。不致因斷水、壓力過(guò)高、進(jìn)水水質(zhì)差等情況下供電，這種情況下切斷 EDI 電源的交流電源。同時(shí)，該電源本身配置了斷水保護(hù)電路，在典型安裝 中，保護(hù)電路中連接一個(gè)或多個(gè)水流繼電器，當(dāng)沒(méi)有水時(shí)，系統(tǒng)或模塊 全部或個(gè)別缺水時(shí)，防止EDI電源送電。這個(gè)操作沒(méi)有切斷交流電源。EDI電源可以輸出不同的電壓、電流等級(jí)，為配套各種型號(hào)CEDI模塊提供選擇。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

使用EDI超純水系統(tǒng)時(shí)有一定的規(guī)則，用戶需要遵守這些規(guī)則。，在使用設(shè)備時(shí)，不能立即進(jìn)入工作狀態(tài)。操作前預(yù)熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護(hù)和使用注意事項(xiàng)。

　　一、EDI超純水系統(tǒng)運(yùn)行

　　設(shè)備在運(yùn)行一段時(shí)間后可能會(huì)發(fā)熱。這是正常的，但在設(shè)備運(yùn)行了一定時(shí)間后，有必要讓設(shè)備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統(tǒng)的工作時(shí)間為每天8小時(shí)，10小時(shí)可以，但使用一段時(shí)間后，用戶清潔設(shè)備以恢復(fù)受污染設(shè)備的原始性能。在恢復(fù)設(shè)備性能的同時(shí)，應(yīng)盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統(tǒng)。