EDI模塊的維護(hù)主要是針對(duì)出水量下降、水質(zhì)惡化等問(wèn)題，是對(duì)EDI進(jìn)行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過(guò)程中，EDI模塊可能因外部壓力過(guò)大或內(nèi)部故障而需要維修。
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EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設(shè)備的核心部件，當(dāng)EDI運(yùn)行不穩(wěn)定或者無(wú)法使用時(shí)，會(huì)造成拋光混床樹脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導(dǎo)致水質(zhì)產(chǎn)出異常，從而影響生產(chǎn)工作。

引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點(diǎn)：

1、當(dāng)模塊長(zhǎng)期處于大電流、小流量的運(yùn)行狀態(tài)時(shí)，運(yùn)行溫度會(huì)增加并且不能及時(shí)散熱，將會(huì)導(dǎo)致兩極膜片受熱變形，導(dǎo)致進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

2、當(dāng)EDI模塊長(zhǎng)期沒有保養(yǎng)或清洗，將會(huì)使得EDI內(nèi)部膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流調(diào)節(jié)異常，***終將導(dǎo)致模塊無(wú)法使用，影響工作進(jìn)度。

3、當(dāng)清洗、保養(yǎng)時(shí)使用不合適的藥劑,會(huì)使得模塊內(nèi)部樹脂破損，導(dǎo)致進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

4、在缺水缺水狀態(tài)加電，導(dǎo)致膜片和樹脂發(fā)熱碳化。

深圳超純環(huán)保股份有限公司有***維修技術(shù)人員可以對(duì)EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進(jìn)行診斷并提供維修/再生服務(wù)，***EDI模塊恢復(fù)正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長(zhǎng)使用時(shí)間。

如何選擇EDI電源？

　　在選擇EDI電源之前，我們需要明確EDI系統(tǒng)的產(chǎn)水流量、CEDI模塊的品牌、CEDI模塊的數(shù)量以及型號(hào)等參數(shù)，不同品牌，不同廠家生產(chǎn)的CEDI膜堆流量、運(yùn)行壓力、電壓、電流是不相同的。在明確每臺(tái)CEDI模塊的流量，運(yùn)行電壓和電流之后，我們就可以選擇相應(yīng)的EDI電源了。目前在國(guó)內(nèi)，好的EDI電源品牌主要有上海懿博和上海萌欣，可以配套使用在0.5噸-5噸流量，電流0-10A，電壓0-600V的CEDI模塊上。如果您對(duì)EDI電源的選型上還有疑問(wèn)，

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

使用EDI超純水系統(tǒng)時(shí)有一定的規(guī)則，用戶需要遵守這些規(guī)則。，在使用設(shè)備時(shí)，不能立即進(jìn)入工作狀態(tài)。操作前預(yù)熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護(hù)和使用注意事項(xiàng)。

　　一、EDI超純水系統(tǒng)運(yùn)行

　　設(shè)備在運(yùn)行一段時(shí)間后可能會(huì)發(fā)熱。這是正常的，但在設(shè)備運(yùn)行了一定時(shí)間后，有必要讓設(shè)備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統(tǒng)的工作時(shí)間為每天8小時(shí)，10小時(shí)可以，但使用一段時(shí)間后，用戶清潔設(shè)備以恢復(fù)受污染設(shè)備的原始性能。在恢復(fù)設(shè)備性能的同時(shí)，應(yīng)盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統(tǒng)。